620.3
Ф 947
Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники = Fundamental bases of chemical vapour deposition procesess of films and structures for nanoelectronics / Кузнецов Ф.А. [и др.] ; акад. Фомин В.М. (гл. ред.) [и др.] (редкол.) ; Рос. акад. наук, Сиб. отд-ние, Ин-т неорган. химии им. А.В. Николаева, Иркут. ин-т химии им. А.Е. Фаворского, Ин-т физики полупроводников им. А.В. Ржанова. — Новосибирск : Изд-во СО РАН, 2013. — 175 с. : ил., табл. — (Интеграционные проекты СО РАН ; вып. 37). — Парал. тит. л. англ. Библиогр. : с. 156-171. — ISBN 978-5-7692-1272-7.