Лаборатория диагностики микроэлектронных тонкоплёночных структур | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
Научные направления
Зав.лаб. Закончил МФТИ с красным дипломом в 1972 г. Защитил кандидатскую диссертацию в Институте теоретической физики им. Л.Д. Ландау в 1975 г. Защитил докторскую диссертацию (д.ф.-м.н.) в ИРЭ РАН в 1989 г. Автор более 100 научных трудов (76 журнальных статей, 3 статьи в «Физической энциклопедии» и «Физическом энциклопедическом словаре»). Научная биография представлена в «Who is Who?». Диагностика подвижного заряда в кремниевых МОП-структурах. Требования к технологии изготовления современных приборов кремниевой микроэлектроники (сверхбольших интегральных микросхем и т.п.) всегда были высоки. Плотность пограничных состояний (ПС) на границе раздела (ГР) Si-SiO2, концентрация подвижного заряда в плёнке окисла и других дефектов не должны превышать уровень ~1010 см-2. Миниатюризация лишь повышает нормативы, и в настоящее время речь идёт о величинах в диапазоне 109-1010 см-2. Уровень совершенства структур в этой области, вероятно, самый высокий в электронике. Его реализация потребовала создания новых методов диагностики. Рассмотрим, в качестве примера, диагностику подвижных ионов (и подвижного заряда вообще) в окисле МОП (металл-окисел-полупроводник)-структур. Требуемой, на сегодняшний день, чувствительностью при диагностике подвижных ионов в окисле обладают изотермический метод динамических вольт-амперных характеристик (ДВАХ) и метод вторично-ионной масс-спектрометрии. Методика ДВАХ при количественной диагностике ионов традиционно используется в форме «метода вычитания». Его смысл состоит в том, что эффективная поверхностная концентрация ионов NS определяется по площади ионного пика на ДВАХ, за вычетом емкостных токов, определяемых по низкочастотной вольт-фарадной характеристике (НЧ ВФХ) структуры. Отметим, что в этом методе используется предположение о блокирующем характере границ раздела (ГР) диэлектрика и не учитывается перераспределение потенциала между полупроводником и диэлектриком при движении ионов. История метода приведена в [10]. Ниже описано развитие метода «вычитания», в котором эти ограничения сняты. Кроме того, в реальной ситуации, однако, транспорт заряда (ионов, дырок и электронов) через ГР в процессе измерений вполне возможен. Диагностика этих процессов представляет, конечно, и самостоятельный интерес. При квазистатическом (квазиравновесном по отношению к электронным процессам в полупроводнике) изменении внешнего напряжения Vg(t) на структуре ток I(t) во внешней цепи и потенциал поверхности полупроводника (относительно его значения в объёме) φs равны [8]:
Приведенные уравнения справедливы для одномерной геометрии образца. Приведем краткий вывод представленных формул. В общем случае, когда образец произвольной формы расположен между электродами А и В (электрод В заземлён) любой формы, ток во внешней цепи равен [8]:
Здесь С0 емкость системы без токов, ΦA (Φ0A) - потенциал электрода A при наличии (отсутствии) в образце зарядов, G пространство, занимаемое образцом, E(E0) электрическое поле в образце при наличии (отсутствии) в нем зарядов, j конвективный ток в образце, P поляризация образца, ε диэлектрическая проницаемость образца, а r радиус-вектор. В формуле (3) первое слагаемое представляет собой емкостной ток, а второе слагаемое
описывает вклад от конвективных токов в пленке в измеряемый ток. Заметим, что формула (3) справедлива для произвольной геометрии. В ней учтена также возможность протекания тока через обе границы раздела. Из нее нетрудно получить формулы (1) для одномерной геометрии, когда поляризация отсутствует, ε постоянна и однородна, а неоднородности потенциала на ГР диэлектрик-полупроводник отсутствуют. Формулы для Icon, в свою очередь, используют для определения концентрации подвижных ионов NS в диэлектрике. Формулы (1) можно использовать и для описания других случаев. Например, для описания многослойных структур [8] или расчёта термотоков в МОП-структуре [9]. Экспериментальная (компьютеризированная) установка на основе газопроточного вакуумного азотного криостата описана в [7]. Она позволяет проводить синхронные измерения ДВАХ и низкочастотных (или высокочастотных) ВФХ образца в криостате. Эти измерения нужны для определения концентрации ионов на эксперименте. В случае блокирующих электродов Iem≡ 0. Тогда из предыдущих формул следует:
С другой стороны
Здесь S площадь структуры, jcon плотность конвективного тока, qi заряд иона, d толщина плёнки, NS поверхностная, а Ni объёмная концентрация подвижных ионов.
где z1=zi (t1) , z2=zi (t2). В предположении z2 - z1 ≈ d получаем окончательно
Эту формулу и используют обычно при измерениях. Более общие формулы для NS рассмотрены в [11-12]. Предлагаемый подход позволяет измерять и токи через ГР полупроводник-диэлектрик [8]. Для этого нужно дополнительно определить релаксацию потенциала полупроводника. Методика определения релаксации потенциала в таких условиях (довольно сложная, правда) предложена в [9]. Теоретическое описание ионов в твёрдом теле основано на введение понятий ионных уровней энергии и ионного уровня Ферми и на использовании распределения Гиббса ионов по энергиям [1-3]. Такой подход делает аналогию между электроникой и ионикой более полнокровной. Литература
|