лХМНАПМЮСЙХ
Лаборатория диагностики микроэлектронных тонкоплёночных структур.
Лаборатория диагностики микроэлектронных тонкоплёночных структур

Научные направления

  1. Диагностика подвижного заряда в кремниевых МОП-структурах. Транспорт заряда через границы раздела диэлектрика.
  2. Подвижные ионы в тонких пленках диэлектриков (распределения ионов по уровням энергии, поверхностные ионные ловушки, распределение Гиббса и пространственные распределения ионов, механизмы транспорта ионов).
  3. В лаборатории изучались также вопросы взаимодействие мощного электромагнитного излучения с полупроводниковыми структурами и приборами, развивалась (совместно с СКБ ИРЭ РАН, научный руководитель Дмитриев С.Г.) лазерная сканирующая спектроскопия, проводились исследования гетероструктур, выполнялись работы по термоэмиссии и Оже-электронной спектроскопии.

Зав.лаб.
д.ф.-м.н. Дмитриев Сергей Георгиевич

Закончил МФТИ с красным дипломом в 1972 г. Защитил кандидатскую диссертацию в Институте теоретической физики им. Л.Д. Ландау в 1975 г. Защитил докторскую диссертацию (д.ф.-м.н.) в ИРЭ РАН в 1989 г. Автор более 100 научных трудов (76 журнальных статей, 3 статьи в «Физической энциклопедии» и «Физическом энциклопедическом словаре»). Научная биография представлена в «Who is Who?».


Диагностика подвижного заряда в кремниевых МОП-структурах.
Транспорт заряда через границы раздела диэлектрика.

Требования к технологии изготовления современных приборов кремниевой микроэлектроники (сверхбольших интегральных микросхем и т.п.) всегда были высоки. Плотность пограничных состояний (ПС) на границе раздела (ГР) Si-SiO2, концентрация подвижного заряда в плёнке окисла и других дефектов не должны превышать уровень ~1010 см-2. Миниатюризация лишь повышает нормативы, и в настоящее время речь идёт о величинах в диапазоне 109-1010 см-2. Уровень совершенства структур в этой области, вероятно, самый высокий в электронике. Его реализация потребовала создания новых методов диагностики.

Рассмотрим, в качестве примера, диагностику подвижных ионов (и подвижного заряда вообще) в окисле МОП (металл-окисел-полупроводник)-структур. Требуемой, на сегодняшний день, чувствительностью при диагностике подвижных ионов в окисле обладают изотермический метод динамических вольт-амперных характеристик (ДВАХ) и метод вторично-ионной масс-спектрометрии.

Методика ДВАХ при количественной диагностике ионов традиционно используется в форме «метода вычитания». Его смысл состоит в том, что эффективная поверхностная концентрация ионов NS определяется по площади ионного пика на ДВАХ, за вычетом емкостных токов, определяемых по низкочастотной вольт-фарадной характеристике (НЧ ВФХ) структуры. Отметим, что в этом методе используется предположение о блокирующем характере границ раздела (ГР) диэлектрика и не учитывается перераспределение потенциала между полупроводником и диэлектриком при движении ионов. История метода приведена в [10]. Ниже описано развитие метода «вычитания», в котором эти ограничения сняты.

Кроме того, в реальной ситуации, однако, транспорт заряда (ионов, дырок и электронов) через ГР в процессе измерений вполне возможен. Диагностика этих процессов представляет, конечно, и самостоятельный интерес.

При квазистатическом (квазиравновесном по отношению к электронным процессам в полупроводнике) изменении внешнего напряжения Vg(t) на структуре ток I(t) во внешней цепи и потенциал поверхности полупроводника (относительно его значения в объёме) φs равны [8]:

{I(t)=
Css)
Ci+Css)
Icon +CQS
dVg
dt
+
Ci
Ci+Css)
Iem(t) (1)
s
dt
=
Css)
Ci+Css)
dVg
dt
+
1
Ci+Css)
(Icon-Iem)

где CQS=
СiCs
Сi+Cs
   - квазиравновесная ёмкость структуры,
Cs квазиравновесная ёмкость приповерхностной области полупроводника вблизи диэлектрика,
Ci ёмкость диэлектрика, ось Oz направлена от внешней ГР диэлектрика в сторону полупроводника,
Icon описывает вклад в измеряемый во внешней цепи ток от конвективных токов в пленке, Iem ток эмиссии через границу диэлектрик-полупроводник









I=Cs
s
dt
+Iem(2)

Приведенные уравнения справедливы для одномерной геометрии образца.

Приведем краткий вывод представленных формул. В общем случае, когда образец произвольной формы расположен между электродами А и В (электрод В заземлён) любой формы, ток во внешней цепи равен [8]:

I=C0
dΦA
dt
+∫ ∫ ∫
E0
Φ0A
(j+
P
∂t
+E
ε
∂t
)dr(3)
G

Здесь С0 емкость системы без токов, ΦA0A) - потенциал электрода A при наличии (отсутствии) в образце зарядов, G пространство, занимаемое образцом, E(E0) электрическое поле в образце при наличии (отсутствии) в нем зарядов, j конвективный ток в образце, P поляризация образца, ε диэлектрическая проницаемость образца, а r радиус-вектор. В формуле (3) первое слагаемое представляет собой емкостной ток, а второе слагаемое

Icon=∫ ∫ ∫
E0
Φ0A
jdr(4)
С

описывает вклад от конвективных токов в пленке в измеряемый ток.

Заметим, что формула (3) справедлива для произвольной геометрии. В ней учтена также возможность протекания тока через обе границы раздела. Из нее нетрудно получить формулы (1) для одномерной геометрии, когда поляризация отсутствует, ε постоянна и однородна, а неоднородности потенциала на ГР диэлектрик-полупроводник отсутствуют. Формулы для Icon, в свою очередь, используют для определения концентрации подвижных ионов NS в диэлектрике.

Формулы (1) можно использовать и для описания других случаев. Например, для описания многослойных структур [8] или расчёта термотоков в МОП-структуре [9].

Экспериментальная (компьютеризированная) установка на основе газопроточного вакуумного азотного криостата описана в [7]. Она позволяет проводить синхронные измерения ДВАХ и низкочастотных (или высокочастотных) ВФХ образца в криостате.

Эти измерения нужны для определения концентрации ионов на эксперименте. В случае блокирующих электродов Iem≡ 0. Тогда из предыдущих формул следует:

Icon=
Ci
CQS(Vg)
[ I(Vg)-βVCQS(Vg)](5a)

С другой стороны

d d
Icon=
S
di
jcon(z)dz=
qi NS S
d
d zi
dt
, где zi=
1
NS
zNi(z)dz(5б)
0 0

Здесь S площадь структуры, jcon плотность конвективного тока, qi заряд иона, d толщина плёнки, NS поверхностная, а Ni объёмная концентрация подвижных ионов.
Из (5б) вытекает

t2
Icon(t) dt = qi NS S
z2-z1
d
(5в)
t1

где z1=zi (t1) , z2=zi (t2). В предположении z2 - z1 ≈ d получаем окончательно

t2
NS
1
qiS
Icon(t)dt (6)
t1

Эту формулу и используют обычно при измерениях. Более общие формулы для NS рассмотрены в [11-12].


Предлагаемый подход позволяет измерять и токи через ГР полупроводник-диэлектрик [8]. Для этого нужно дополнительно определить релаксацию потенциала полупроводника. Методика определения релаксации потенциала в таких условиях (довольно сложная, правда) предложена в [9].

Теоретическое описание ионов в твёрдом теле основано на введение понятий ионных уровней энергии и ионного уровня Ферми и на использовании распределения Гиббса ионов по энергиям [1-3]. Такой подход делает аналогию между электроникой и ионикой более полнокровной.

Литература

  1. С.Г. Дмитриев, Ю.В. Маркин. ФТП, 34(8), 970-975 (2000)
  2. С.Г. Дмитриев, Ю.В. Маркин. ФТП, 35(2), 192-199 (2001).
  3. С. Г. Дмитриев, Ю.В. Маркин, В. М. Носырев. ПТЭ, № 4, 140 (2001).
  4. С.Г. Дмитриев, Ю.В. Маркин. ФТП, 36(2), 205-210 (2002).
  5. С. Г. Дмитриев, Ю.В. Маркин. РЭ, 48(3), 345-353 (2003).
  6. С. Г. Дмитриев, Ю.В. Маркин, В.Е. Сизов. РЭ, 51(2), 133-150 (2006).
  7. С. Г. Дмитриев, Ю.В. Маркин, В. М. Носырев, В.Е. Сизов. РЭ, 52(1), 85-96 (2007).
  8. С. Г. Дмитриев. ФТП, 43(6), 854-858 (2009).
  9. С. Г. Дмитриев. ФТП, 45(2) 192 (2011).
  10. С.Г. Дмитриев. РЭ, 57(11) 1229-1233 (2012).
  11. С.Г. Дмитриев. РЭ, 58(9) 983-986 (2013).
  12. С.Г. Дмитриев. РЭ, 60(9), 957-962 (2015).